无尘车间温湿度调节、测试方法【高效】_无尘车间湿度多少比较合适(已解决)

 xinwen   2019-07-31 09:05   4 人阅读  0 条评论

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  闲话少说,这次主要是叙述以下概念:无尘车间温湿度调节、测试方法【高效】_无尘车间湿度多少比较合适(已解决)

  【问题A:无尘车间温湿度调节、测试方法【高效】】

  无尘车间的温度测试包括功能温度测试和一般温度测试。当温度精度需要严格控制或施工方要求“静态”或“动态”测试时,功能性温度测试主要用于无尘车间。 一般温度测试主要用于“空状态”下的温度测试。

  无尘车间功能性温度试验,洁净区应划分为等面积网格,每个网格面积不超过100平方米或与施工方协商确定,每个网格有1个以上的测量点,每个房间至少有2个测量点。试验高度应为工作面高度,距吊顶、墙面、地面不小于300毫米,以及热源的影响等。应予以考虑。测量时间至少为1小时,测量时间至少为6分钟。读数稳定后进行记录。无尘车间一般温度测试的测点,每个温控区或每个房间应有一个测点。测量点的高度应为工作面的高度。测量时间应至少为1小时6分钟。读数稳定后应进行记录。

  无尘车间湿度测试:湿度测试可采用通风干湿球湿度计、电容式湿度计、数字湿度计和毛发式湿度计进行。

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  【问题B:无尘车间湿度多少比较合适(已解决)】

  无尘车间需要将车间内的湿度控制在合理的范围内,以保证产品的合格率和性能。清洁车间的合适湿度是多少让我们和边肖一起看看。创迈认为无尘车间的湿度选择应根据具体情况进行分析。

  无尘车间的温湿度主要根据工艺要求确定,但在满足工艺要求的情况下,应考虑人体舒适度。随着空气洁净度要求的提高,有一种趋势是该工艺要求越来越严格的温度和湿度。具体工艺对温度的要求将在后面列出,但作为一般原则,随着加工精度越来越高,对温度波动范围的要求也越来越小。

湖南快乐十分走势图  例如,在用于大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,要求作为掩模材料的玻璃和硅晶片的热膨胀系数之间的差异越来越小。对于直径为100 um的硅晶片,1度的温度升高导致0.24um线性膨胀,所以必须有+/-0。同时要求恒温1度,湿度值一般较低,因为人出汗后,产品会被污染,特别是在怕钠的半导体车间,该车间的温度不应超过25度,湿度过高造成的问题更多。当相对湿度超过55%时,冷却水管壁会发生冷凝,如果冷凝发生在精密设备或电路中,会导致各种事故。当相对湿度为50%时,容易生锈。

  此外,当湿度过高时,附着在硅片表面的灰尘将通过空气中的水分子化学吸附在表面上,这很难去除。相对湿度越高,就越难去除粘附力。然而,当相对湿度低于30%时,由于静电力,颗粒容易吸附在表面上,并且大量半导体器件容易损坏。硅片生产的最佳湿度范围为35-45%。

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